「private:用語作成候補」の版間の差分
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== 【E】 == | == 【E】 == | ||
| − | [[ELID研削]] | + | [[ELID研削]] |
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== 【G】 == | == 【G】 == | ||
| − | [[GPU]] | + | [[GPU]] |
== 【M】 == | == 【M】 == | ||
| − | [[ | + | [[M4プロセス]] |
| − | [[ | + | [[MEMS/MOEMS]] |
| − | [[ | + | [[M推定]] |
== 【N】 == | == 【N】 == | ||
| − | [[ | + | [[NC電解加工]] |
| − | [[ | + | [[NC工作機械]] |
| − | == | + | == 【S】 == |
| + | [[SI-cut]] | ||
| − | + | [[SysML(Systems Modeling Language)]] | |
| − | [[ | + | == 【X】 == |
| + | [[X線CTによる形状計測]] | ||
| − | [[ | + | == 【エ】 == |
| + | [[エバネッセント光]] | ||
| − | [[ | + | [[延性モード切削]] |
| − | [[ | + | [[エンドミル]] |
| − | == | + | == 【オ】 == |
| − | [[ | + | [[オートコリメータ]] |
| − | [[ | + | == 【カ】 == |
| + | [[快削材]] | ||
| − | [[ | + | [[滑水性]] |
| − | + | [[割断]] | |
| − | [[ | + | |
| − | [[ | + | [[ガラスモールド成形]] |
| − | [[ | + | [[カーボンオニオン]] |
| − | [[ | + | == 【ク】 == |
| + | [[空気静圧軸受]] | ||
| − | == | + | == 【ケ】 == |
| + | [[研削]] | ||
| − | + | [[現物融合型エンジニアリング]] | |
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| − | [[ | + | [[研磨]] |
| − | [[ | + | [[研磨機]] |
| − | [[ | + | [[研磨工具]] |
| − | [[ | + | [[研磨剤(Slurry)]] |
| − | [[ | + | [[研磨資材(研磨材)]] |
| − | [[ | + | == 【コ】 == |
| + | [[工具たわみ]] | ||
| − | [[ | + | [[高速M推定]] |
| − | + | [[巧妙加工]] | |
| − | [[ | + | |
| − | [[ | + | [[ゴーストイメージング]] |
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| − | [[ | + | == 【サ】 == |
| + | [[産業用X線CT]] | ||
| − | + | [[三点法]] | |
| − | [[ | + | |
| − | [[ | + | [[サービス工学]] |
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| − | [[ | + | [[磁気援用加工]] |
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| − | + | [[触媒基準エッチング法(CARE)]] | |
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| − | [[ | + | [[真空紫外光]] |
| − | [[ | + | [[真実接触面積の測定]] |
| − | [[ | + | == 【ス】 == |
| + | [[スティッチング測定]] | ||
| − | [[ | + | [[ステレオビジョン]] |
| − | + | [[寸法効果]] | |
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| − | [[ | + | [[成形接合]] |
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| − | [[ | + | [[精度鈍感機構]] |
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| − | [[ | + | [[精密位置決め]] |
| − | [[ | + | [[切削]] |
| − | + | [[切削油剤]] | |
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| − | [[ | + | == 【タ】 == |
| + | [[大気圧プラズマCVD法]] | ||
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== 【ツ】 == | == 【ツ】 == | ||
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== 【テ】 == | == 【テ】 == | ||
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| − | [[ | + | [[電子ビーム加工]] |
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| + | [[データマイニング]] | ||
== 【ト】 == | == 【ト】 == | ||
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| − | [[ | + | [[レーザスライシング]] |
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== 【ロ】 == | == 【ロ】 == | ||
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== 【ワ】 == | == 【ワ】 == | ||
| + | [[ワイヤ放電研削]] | ||
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| + | [[ワイヤ放電ミーリング法]] | ||
2021年4月13日 (火) 15:24時点における最新版
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記述体裁について
運用方針に項目を作成いたしましたので、文案、規定等はそちらに記入ください。
【3】
【C】
【E】
【G】
【M】
【N】
【S】
SysML(Systems Modeling Language)
